Titanijumske mete visoke čistoće

Titanijumske mete za prskanje visoke čistoćesu izvori raspršivanja koji formiraju različite funkcionalne tanke filmove na podlogama magnetronskim raspršivanjem, višelučnim ionskim prevlačenjem ili drugim tipovima sistema premaza pod odgovarajućim procesnim uslovima. Jednostavno rečeno, ciljni materijal je ciljni materijal bombardiran nabijenim česticama velike brzine.

Koristi se u laserskom oružju visoke energije. Kada laseri s različitim gustoćama snage, različitim izlaznim valnim oblicima i različitim valnim dužinama stupaju u interakciju s različitim ciljevima, oni će proizvesti različita ubijanja i oštećenja. efekat. Na primjer: evaporacijski premaz za raspršivanje magnetrona je premaz za grijanje, aluminijski film i tako dalje. Zamjenom različitih ciljnih materijala (kao što su aluminij, bakar, nehrđajući čelik, titan, nikl, itd.), mogu se dobiti različiti sistemi filmova (kao što su supertvrdi, otporni na habanje, filmovi od legura protiv korozije, itd.).

Parametri

Karakteristike

1. Mala težina

2. Visoka specifična čvrstoća

3. Otpornost na koroziju

4. Otpornost na visoke i niske temperature

Prijave

★Brodogradnja ★Elektrolitička obrada ★Vazduhoplovstvo ★Hemijska industrija ★Medicinska oprema

Detalji

Izrađen od visokokvalitetnih sirovina, otporan na habanje i koroziju, dugotrajnu upotrebu

Bez ljuštenih pukotina na površini, bez mrlja od ulja, glatka i čista bočna površina

Kompletne specifikacije, proizvoljno rezanje, podržavaju nestandardno prilagođavanje

Čistoća ciljanog materijala ima veliki utjecaj na performanse filma. Čistoća je jedan od ciljnih pokazatelja učinka.

Čistoća

Čistoća mete jedan je od glavnih pokazatelja učinka mete jer čistoća mete uvelike utječe na performanse filma. Međutim, u stvarnim primjenama zahtjevi za čistoćom ciljnog materijala nisu isti. Na primjer, sa brzim razvojem industrije mikroelektronike, veličina silikonske pločice je proširena sa 6 ", 8" na 12 ", širina ožičenja je smanjena sa 0.5 um na 0. 25 um, 0.18 um, i 0.13 um. Ranije je ciljna čistoća bila 99,995 posto.

Sadržaj nečistoća

Glavni izvor taloženog filma je kiseonik i vlaga ciljnih čvrstih materija i pora. Mete za različite primjene imaju različite zahtjeve za različite razine nečistoća. Na primjer, mete od čistog aluminija i aluminijskih legura koje se koriste u industriji poluprovodnika imaju posebne zahtjeve za sadržaj alkalnih metala i sadržaj radioaktivnih elemenata.

Gustina

Da bi se smanjile pore ciljnih čvrstih materija i poboljšale performanse raspršenih filmova, mete obično moraju biti gušće. Ciljna gustina utiče ne samo na brzinu raspršivanja već i na električna i optička svojstva filma. Što je veća ciljna gustina, to su bolje performanse filma. Osim toga, kada se poveća gustina i intenzitet mete, meta može izdržati termički stres tokom raspršivanja. Gustina je jedan od ciljnih pokazatelja učinka.

Veličina zrna i distribucija veličine

Obično je meta polikristalna, a veličina čestica može biti od mikrometara do milimetra. U slučaju iste mete, brzina raspršivanja finozrnate mete je veća od brzine prskanja krupnozrnate mete, dok taloženje raspršivanjem mete manje veličine čestica (ujednačena distribucija) ima ujednačenu distribuciju debljine (ujednačeno) . Distribucija.

Ako ste zainteresovani zatitanijumske mete visoke čistoće, slobodno nas kontaktirajte:

E-mail:zhangjixia@bjygti.com

Početna stranica:http://www.toptitech.com

Popularni tagovi: Titanijumske mete za prskanje visoke čistoće, Kina, dobavljači, proizvođači, prilagođeni, upotreba, cjenik, na prodaju, na lageru, besplatni uzorak, porozni materijal