Znanje

Home/Znanje/Detalji

Analiza zahtjeva za ciljnim performansama prskanja titana u svim industrijama

U području tehnologija taloženja tankog filma, mete za raspršivanje titanijuma igraju ključnu ulogu u različitim industrijama, od kojih svaka zahtijeva precizne specifikacije performansi kako bi ispunila svoje jedinstvene zahtjeve.

 

Fundamentalni kriteriji performansi za mete za raspršivanje titanijuma

 

  • Čistoća: Čistoća je najvažnija metrika performansi za mete za raspršivanje, značajno utječući na svojstva tankog filma. Zahtjevi za čistoću specifičnih za industriju variraju; na primjer, u industriji poluprovodnika, prag čistoće je eskalirao sa smanjenjem dimenzija silikonske pločice i širine žice. Ranije je nivo čistoće od 99,995% bio dovoljan za 0.35μm IC procese, dok proizvodnja 0.18μm linija sada zahtijeva nivoe čistoće od 99,999% ili čak 99,9999%.
  • Sadržaj nečistoća: Nečistoće unutar ciljanog materijala i gasovi zarobljeni u porama služe kao primarni izvori kontaminacije tokom taloženja filma. Kao posljedica toga, različite primjene zahtijevaju različite nivoe čistoće. Na primer, u sektoru poluprovodnika, mete od čistog aluminijuma i legura aluminijuma nameću posebne zahteve za sadržaj alkalnih metala i radioaktivnih elemenata.
  • Gustina: Visoka gustina mete se traži kako bi se smanjilo prisustvo pora unutar čvrste mete, poboljšavajući performanse raspršenog filma. Gustoća cilja ne samo da utječe na brzinu raspršivanja, već i na električna i optička svojstva filmova. Povećana gustina i čvrstoća jačaju mete protiv termičkog naprezanja tokom procesa raspršivanja, čineći gustinu kritičnim indikatorom performansi.
  • Veličina zrna i distribucija: mete za raspršivanje obično pokazuju polikristalne strukture sa veličinom zrna u rasponu od mikrometara do milimetara. Mete sa finijim zrnima obično pokazuju veće stope raspršivanja u poređenju sa grubljim pandanima. Ciljevi sa minimalnim disparitetom u veličini zrna (ujednačena distribucija) daju filmove sa ravnomernijom raspodelom debljine.
High Purity Titanium Sputtering Targets for Quality Thin Films – Target  Materials

 

Različiti industrijski zahtjevi čistoće za mete za raspršivanje titanijuma

 

  • Integrisana kola: Titanijumske mete za raspršivanje koje se koriste u integrisanim kolima zahtevaju izuzetno visoke nivoe čistoće od preko 99,995% kako bi se osigurale performanse i stabilnost filma.
  • Displeji sa ravnim ekranom: Različite tehnologije ravnog ekrana, kao što su LCD, plazma displeji, OLED-i i ekrani sa emisijom na terenu, koriste tehnike taloženja raspršivanjem gde titanijumske mete, ključni materijali za raspršivanje, obično zahtevaju čistoću veću od 99,9%.
What are the Differences Between an Integrated Circuit and a Microprocessor  - Total Phase

Titanijumske mete za raspršivanje nalaze široku primjenu u elektronici, informatičkoj tehnologiji, kućnom dekoru, proizvodnji automobilskog stakla i drugim visokotehnološkim sektorima. U ovim industrijama, titanijumske mete se koriste za premazivanje integrisanih kola, komponenti ravnih ploča, dekorativnih aplikacija, staklenih premaza i još mnogo toga.
 

 

Kontaktirajte sada